新德里美国驻印度大使馆
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建于1955年,是“新典雅主义”建筑作品的代表作。为适应印度干热的气候,主体建筑采用了封闭的内院式建筑,内外均设柱廊,并在其后衬以白色漏窗式幕墙,整个建筑端庄典雅。由于设计杰出,该建筑物于1961年获美国AIA 奖。

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上传时间:2008-3-28 21:31
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