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新德里美国驻印度大使馆
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建于1955年，是“新典雅主义”建筑作品的代表作。为适应印度干热的气候，主体建筑采用了封闭的内院式建筑，内外均设柱廊，并在其后衬以白色漏窗式幕墙，整个建筑端庄典雅。由于设计杰出，该建筑物于1961年获美国AIA 奖。
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上传时间：2008-3-28 21:31
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